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真空鍍膜設備廠家分析各類結構

發布時間:2020.03.09 瀏覽次數:
   
真空鍍膜設備是有著非常多的結構的,不同的結構有著不同的作用,那么真空鍍膜設備到底有著什么結構呢?下面真空鍍膜設備廠家分析各類結構。

1.蒸騰與磁控濺射的混合設備:  多功能,合適量產,適應性強。
2.磁控濺射與多弧離子鍍的混合運用: 多弧能夠進步炮擊清洗質量,添加薄膜與基材結合力。與磁控濺射一起作業可鍍制復合膜(高能離子源清洗活化,成膜速度快)。
3.多對中頻磁控濺射靶與柱弧離子鍍的混合運用:  1.中頻靶更安穩(如Al ),離化率高、堆積速率快、成膜均勻。2.中頻反應濺射如鍍制Si02、TiO2,一起鍍多層不一樣原料簿膜。
4.射頻、直流、中頻、柱弧的混合運用: 射頻能夠直接鍍制絕緣保護膜如SiO2/Ag/SiO2
5.圓柱弧、中頻、多弧的混合運用: 柱弧確保高離化率的一起,削減大顆粒堆積的份額,到達有好的結合力又有較好表面光潔度的作用。



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