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真空鍍膜設備廠家分析真空必要性

發布時間:2020.03.10 瀏覽次數:
   
真空鍍膜設備在工作的過程中,對于它的真空環境是有著嚴格的要求的,那么都是什么要求呢?下面真空鍍膜設備廠家分析真空必要性。

1.真空狀態下,真空室中空氣極少,膜料分子從蒸發源到達基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞,即分子自由程長,膜料容易沉積在基片上。

2.真空狀態下,膜料的熔點溫度和蒸發溫度要比在大氣狀態下低很多。對高熔點的氧化物膜料,在真空狀態下其熔點要低得多。也就容易到蒸發溫度而不需太高的能量。

3.由于真空室中氣體分子少,因而楊分子、硫分子等活潑分子也少,高溫狀態的膜料分子就不會與之發生化學變化,從而保證膜層的膜料純度。
 
通過上面的內容,相信大家都已經知道真空鍍膜設備的真空必要性了。

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