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真空鍍膜設備廠家分析膜厚測量及監控方法

發布時間:2020.03.12 瀏覽次數:
   
真空鍍膜設備在進行膜厚測量及監控方法的時候,我們需要進行很多問題,下面真空鍍膜設備廠家分析膜厚測量及監控方法。


涂層的控制方法是最直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,鍍膜機該儀器可以直接驅動的蒸發源,通過PID控制回路傳動擋板,使蒸發率。只要儀器和系統控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的,鍍膜機部分原因是其監測代替光學厚度的涂層質量。此外,雖然QCM在低溫下非常穩定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中,鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區域,導致薄膜的重大錯誤。

光學監測是一種高精度涂層優選的監控模式,鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。精度的提高,由于許多因素,但最根本的原因是光學厚度的監測。optimalswa-i-05單一波長的光學監測系統,是間接控制,鍍膜機先進的光學監測軟件結合王博士的發展,有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少最終的誤差的理論方法,提供監測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監控包括不規則的膜。



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